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小型濺射儀問(wèn)題解答

更新時(shí)間:2023-04-17點(diǎn)擊次數:1093

小型濺射儀儀問(wèn)儀答

最近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數問(wèn)的問(wèn)題比較多,今天總結一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題:


1、膜厚檢測儀原理:膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測量技術(shù)加上*數學(xué)算法,進(jìn)行膜厚的在線(xiàn)鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設備的薄膜制備過(guò)程中,對膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監測。


2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳  但是 鎳是導磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm最好  太厚磁場(chǎng)無(wú)法穿透  濺射速率很低。


3、直流濺射鍍膜調節:1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。


鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

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以上是小伙伴近期問(wèn)的比較多的問(wèn)題,如果還有什么問(wèn)題歡迎咨詢(xún)。


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